目前自有的生產(chǎn)設(shè)備主要有真空中頻感應(yīng)熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結(jié)爐，真空蒸餾爐，區(qū)域熔煉熔爐，多溫區(qū)加熱爐，單晶爐，真空熱壓爐，高溫燒結(jié)爐，單溫區(qū)，雙溫區(qū)、多溫區(qū)液相、氣相合成爐、氧化爐、氮化爐、冷壓成型機，真空鍛軋設(shè)備，車床，磨床，銑床，鉆床，沖床，線切割等各種材料成型及機械加工設(shè)備。
主要產(chǎn)品有各種濺射靶材，陶瓷靶材,合金靶材,稀土靶材,蒸發(fā)鍍膜料，半導體化合物，高純金屬，蒸餾稀土金屬，還原稀土金屬，稀土合金，中間合金，高純化合物等。

陶瓷靶材
硼化物靶材
硼化二鉻陶瓷靶材 (Cr2B)，硼化鉻陶瓷靶材 (CrB)，二硼化鉻陶瓷靶材 (CrB2)，三硼化五鉻陶瓷靶材 (Cr5B3), 硼化鐵陶瓷靶材 (FeB)，二硼化鉿陶瓷靶材 (HfB2)，六硼化鑭陶瓷靶材 (LaB6)，硼化二鉬 (Mo2B)，五硼化二鉬 (Mo2B5)，硼化鈮 (NbB)，二硼化鈮 (NbB2)，硼化鉭 (TaB),Tantalum Boride (TaB2)，二硼化鈦(TiB2)，硼化二鎢 (W2B)，硼化鎢 (WB)，硼化釩陶瓷靶材 (VB)，二硼化釩陶瓷靶材 (VB2)，二硼化鋯陶瓷靶材 (ZrB2) 
碳化物靶材 
碳化四硼陶瓷靶材(B4C)，二碳化三鉻陶瓷靶材 (Cr3C2)，碳化鉿陶瓷靶材(HfC)，碳化二鉬陶瓷靶材 (Mo2C)，碳化鈮陶瓷靶材 (NbC)，碳化硅陶瓷靶材 (SiC)，碳化鉭陶瓷靶材 (TaC)，碳化鈦陶瓷靶材(TiC)，碳化鎢陶瓷靶材 (WC)，碳化二鎢陶瓷靶材 (W2C)，碳化釩陶瓷靶材 (VC)，碳化鋯陶瓷靶材 (ZrC) 
氟化物靶材 
氟化鋁陶瓷靶材(AlF3)，氟化鋇陶瓷靶材 (BaF3)，氟化鎘陶瓷靶材 (CdF2)，氟化鈣陶瓷靶材 (CaF2)，氟化鈰陶瓷靶材 (CeF3)，氟化鏑陶瓷靶材 (DyF3)，氟化鉺陶瓷靶材(ErF3)，氟化鉿陶瓷靶材 (HfF4)，氟化鉀陶瓷靶材 (KF)，氟化鑭陶瓷靶 (LaF3)，氟化鉛陶瓷靶(PbF2)，氟化鋰陶瓷靶材(LiF)，氟化鐠陶瓷靶材 (PrF3)，氟化鎂陶瓷靶材(MgF2)，氟化釹陶瓷靶材 (NdF3)，氟化釤陶瓷靶材 (SmF3)，氟化鈉陶瓷靶材（NaF)，鋁氟酸鈉(冰晶石)靶材(Na3AlF6)，氟化鍶陶瓷靶材(SrF2)，氟化釷陶瓷靶材 (ThF4)，氟化釔陶瓷靶材 (YF3)，氟化鐿(YbF3) 
氮化物靶材 
氮化鋁陶瓷靶材 (AlN)，氮化硼陶瓷靶材 (BN)，氮化鎵陶瓷靶材(GaN), 氮化鉿陶瓷靶材(HfN)，氮化鈮陶瓷靶材 (NbN)，氮化硅陶瓷靶材 (Si3N4)，氮化鉭陶瓷靶材 (TaN)，氮化鈦陶瓷靶材 (TiN)，氮化釩陶瓷靶材 (VN)，氮化鋯陶瓷靶材 (ZrN) 
氧化物靶材
氧化鋁陶瓷靶材 (Al2O3),氧化銻陶瓷靶材(Sb2O3),氧化銻摻錫陶瓷靶材(ATO)，鈦酸鋇陶瓷靶材(BaTiO3)，氧化鉍陶瓷靶材(Bi2O3)，氧化鈰陶瓷靶材(CeO2),氧化銅陶瓷靶材(CuO),氧化鉻陶瓷靶材(Cr2O3),氧化鏑陶瓷靶材(Dy2O3),氧化鉺陶瓷靶材(Er2O3),氧化鉺陶瓷靶材(Eu2O3),氧化釓陶瓷靶材(Gd2O3),氧化鎵陶瓷靶材(Ga2O3),氧化鍺陶瓷靶材GeO2),二氧化鉿陶瓷靶材(HfO2),氧化鈥陶瓷靶材(Ho2O3),氧化銦陶瓷靶材(In2O3),氧化銦錫陶瓷靶材(ITO),三氧化二鐵陶瓷靶材(Fe2O3),四氧化三鐵陶瓷靶材(Fe3O4),氧化鑭陶瓷靶材(La2O3),鈦酸鉛陶瓷靶材(PbTiO3),鋯酸鉛陶瓷靶材(PbZrO3),鈮酸鋰靶材(LiNbO3), 鐵酸镥陶瓷靶材(Lu3Fe5O12),氧化镥陶瓷靶材(Lu2O3),氧化鎂陶瓷靶材(MgO),氧化鉬陶瓷靶材(MoO3),氧化釹陶瓷靶材(Nd2O3),氧化鐠陶瓷靶材(Pr6O11),鈦酸鐠陶瓷靶材(Pr(TiO2)2),氧化鐠陶瓷靶材(Pr2O3),氧化釤陶瓷靶材(Sm2O3),氧化鈧陶瓷靶材(Sc2O3),二氧化硅靶材(SiO2),一氧化硅陶瓷靶材(SiO),鈦酸鍶陶瓷靶材(SrTiO3),鋯酸鍶陶瓷靶材(SrZrO3),五氧化二鉭陶瓷靶材(Ta2O5),氧化鋱?zhí)沾砂胁?Tb4O7),氧化碲陶瓷靶材(TeO2),氧化釷陶瓷靶材(ThO2), 氧化銩陶瓷靶材(Tm2O3),二氧化鈦陶瓷靶材(TiO2),一氧化鈦陶瓷靶材(TiO),五氧化三鈦陶瓷靶材(Ti3O5),三氧化二鈦陶瓷靶材(Ti2O3),二氧化錫陶瓷靶材(SnO2),一氧化錫陶瓷靶材(SnO),三氧化鎢陶瓷靶材(WO3),五氧化二釩陶瓷靶(V2O5),釔鋁石榴石(YAG)Y3Al5O12,三氧化二鐿陶瓷靶材 (Yb2O3),氧化釔陶瓷靶材(Y2O3),氧化鋅陶瓷靶材(ZnO),摻鋁氧化鋅陶瓷靶材(ZnO:Al),氧化鋯陶瓷靶材(ZrO2)(未摻雜),氧化鈣穩(wěn)定氧化鋯陶瓷靶材 (ZrO2-5-15wt%CaO)，氧化釔穩(wěn)定氧化鋯陶瓷靶材（ZrO2：Y2O3)
硒化物靶材 
硒化鉍陶瓷靶材 (Bi2Se3), 硒化鎘濺射靶材 (CdSe),硒化銦濺射靶材 (In2Se3),硒化鉛濺射靶材 (PbSe),硒化鉬濺射靶材 (MoSe2),硒化鈮濺射靶材 (NbSe2),硒化鉭濺射靶材 (TaSe2),硒化鎢濺射靶材 (WSe2),硒化鋅濺射靶材 (ZnSe) 
硅化物靶材 
硅化三鉻陶瓷濺射靶材(Cr3Si),二硅化鉻陶瓷濺射靶材(CrSi2),二硅化鈷陶瓷靶材(CoSi2), 二硅化鉿陶瓷靶材(HfSi2),二硅化鉬陶瓷靶材(MoSi2),二硅化鈮陶瓷靶材(NbSi2),二硅化鉭陶瓷靶材(TaSi2),三硅化五鉭陶瓷靶材(Ta5Si3),二硅化鈦陶瓷靶材(TiSi2),三硅化五鈦陶瓷靶材(Ti5Si3),二硅化鎢陶瓷靶材(WSi2),硅化三釩陶瓷靶材(V3Si),二硅化釩陶瓷靶材(VSi2),二硅化鋯陶瓷靶材 (ZrSi2) 
硫化物靶材 
硫化銻陶瓷靶材(Sb2S3) ,硫化砷陶瓷靶材(As2S3),硫化鎘陶瓷靶材(CdS),硫化鐵陶瓷靶材(FeS),硫化鉛陶瓷靶材(PbS),硫化鉬陶瓷靶材(MoS2),硫化鈮陶瓷靶材(NbS1.75),硫化鉭陶瓷靶材 (TaS2),硫化鎢陶瓷靶材(WS2),硫化鋅陶瓷靶材 (ZnS),
碲化物靶材
碲化鎘陶瓷靶材 (CdTe),碲化鉛陶瓷靶材 (PbTe),碲化鉬陶瓷靶材 (MoTe2),碲化鈮陶瓷靶材 (NbTe2),碲化鉭陶瓷靶材 (TaTe2),碲化鎢陶瓷靶材 (WTe2),碲化鋅陶瓷靶材 (ZnTe)，碲化銦陶瓷靶材(InTe)
其他陶瓷靶材
摻鉻一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化銦靶材(InP)，砷化鉛靶材(PbAs)，砷化銦靶材(InAs)，磷化鎵靶材(GaP)，銻化鎵靶材(GaSb)，銻化銦靶材（InSb）

純度： 99%, 99.9%,99.95% 99.99%,99.995% 99.999% and 99.9999%.
形狀：板材，圓片，矩形，方形，圓環(huán)，圓管，臺階圓片，臺階矩形，其他客戶訂制
單片尺寸：直徑 (18英寸)，長度 (410mm)，寬度 (270mm)，厚度 (25mm)

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