光伏設備供應商Amtech Systems正在SNEC 2014上強調(diào)兩項新的創(chuàng)新，其中包括贏得幾個鈍化新訂單后其“SPECTRE” 等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)以及啟用該技術的抗反射涂層工藝。

Amtech旗下子公司Tempress Systems的總經(jīng)理Albert Hasper博士表示：“我們很高興，在行業(yè)下行周期期間，我們對于研發(fā)、技術和設備的持續(xù)投資現(xiàn)在推進我們產(chǎn)品進入不斷發(fā)展的太陽能市場。我們預計，這些創(chuàng)新將為我們客戶帶來新的解決方案，使得他們能夠降低成本并提高效率。由于市場著眼于為新一代生產(chǎn)定位，我對于在推出我們新的直流等離子體SPECTRE PECVD系統(tǒng)后，我們目前提供兩個可以整合到現(xiàn)有和新的生產(chǎn)線的創(chuàng)新感到特別自豪。”

根據(jù)該公司，Amtech還在Tempress Systems的五堆疊平臺展示一個新的POCl(3)工藝，針對每平方面積高達140歐姆的發(fā)射極電阻。據(jù)說大氣過程可以降低維護和提高正常運行時間，產(chǎn)量超過3,200wph，最終每個現(xiàn)行硅片實現(xiàn)最低成本。

據(jù)說其Kingstone半導體離子注入設備的發(fā)展也不斷進步，目前號稱在生產(chǎn)環(huán)境中產(chǎn)生平均效率20.3%，實驗室高于20.8%。盡管所有權問題的成本困擾了離子注入技術的采用，但是該公司稱，CoO低于前幾代設備。