· 創(chuàng)新的Olympia™系統(tǒng)確立了應用材料公司在原子層沉積技術領域的前沿地位

· 獨特的模塊化架構可生產(chǎn)出各類高質(zhì)量ALD薄膜，并且在不犧牲產(chǎn)量的前提下支持關鍵低溫工藝

· Olympia™系統(tǒng)已被多家芯片制造商成功用于生產(chǎn)各類邏輯和內(nèi)存設備應用



加利福尼亞州圣克拉拉，2015年7月13日——應用材料公司今天宣布推出全新的Olympia™原子層沉積(atomic layer deposition, ALD)系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用獨特的模塊化架構，為先進3D內(nèi)存和邏輯芯片制造商帶來了高性能ALD技術。3D設備的興起推動了對新型圖形轉(zhuǎn)移薄膜和新共型材料的需求，以及降低材料熱預算的要求。在這一背景下，ALD技術得到了迅速發(fā)展。Olympia系統(tǒng)可以在不犧牲ALD沉積性能的前提下，充分滿足所有這些要求，從而解決行業(yè)挑戰(zhàn)，并具有極高的工藝靈活性，可精確設計并有效沉積各類低溫、高品質(zhì)薄膜材料，適合眾多應用領域。

應用材料公司介質(zhì)系統(tǒng)及模塊事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理Mukund Srinivasan博士表示：“Olympia系統(tǒng)對3D設備的演進而言無疑是一項重大的技術創(chuàng)新。它克服了芯片制造商在使用傳統(tǒng)ALD技術時所面臨的關鍵技術瓶頸，如單硅片解決方案的化學控制性不佳以及反應爐加工周期過長等問題。因此，市場對Olympia系統(tǒng)的反響十分熱烈，目前該系統(tǒng)已成功安裝于多家客戶的生產(chǎn)線中，支持他們制造出10納米級甚至以下的芯片。”

獨特的適應性模塊化架構使Olympia系統(tǒng)可支持靈活、快速的工藝順序，因而能有效控制下一代ALD薄膜所需的復雜化學物質(zhì)。此外，模塊化設計也實現(xiàn)了化學物質(zhì)的完全分離，減少了傳統(tǒng)ALD技術為提高產(chǎn)量而加入的泵/吹掃工序。憑借這些優(yōu)勢，Olympia系統(tǒng)能帶來比傳統(tǒng)ALD系統(tǒng)更優(yōu)異的解決方案，這也使其擁有了更廣闊的應用前景。

* ALD=原子層沉積


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