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高純銀Ag濺射鍍膜靶材 銀合金管 顆粒 PVD磁控濺射材料

 
品牌: aetoes
單價(jià): 200.00元/件
起訂: 1 件
供貨總量: 100 件
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 江蘇 蘇州市
有效期至: 長期有效
最后更新: 2025-01-07 14:41
瀏覽次數(shù): 42
 
公司基本資料信息
詳細(xì)說明

磁控濺射科研高純Ag)鍍膜靶材及銀合金管、絲材、顆粒,銀板,PVD鍍膜材料以及背板綁定bonding服務(wù)。

 

產(chǎn)品名稱:

高純(Silver -Ag)及銀合金管絲材

牌號(hào)規(guī)格:

Ag1Ag2AgCu10AgCu30AuNi5Ag2AgCuTi3-0.1

用途:

用于通訊工具的接插件、鉭電容器外殼、火箭點(diǎn)火裝置、超導(dǎo)復(fù)合材料套管等


該材料用于通訊工具的接插件、鉭電容器外殼、火箭點(diǎn)火裝置、超導(dǎo)復(fù)合材料套管等。

 

 

產(chǎn)

隨著磁控濺射鍍膜沉積靶材在磁記錄介質(zhì)、電子半導(dǎo)體、薄膜太陽能及平面顯示等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,我們加大在稀貴金屬靶材研發(fā)和制備方面的投入力度,通過原料控制、真空感應(yīng)熔煉、擠壓、軋制、真空熱壓燒結(jié)、熱等靜壓、放電等離子體燒結(jié)等不同工藝并采用嚴(yán)格的質(zhì)量控制過程,我們能夠制備多種靶材并能一直保持著批量供貨。

 

  號(hào)

合金牌號(hào)

 點(diǎn)

  g/cm3

μΩ.cm

維氏硬度不小于

1

Ag1Ag2

961

10.5

1.6

85

2

AgCu10

779

10.3

2.0

140

3

AgCu12.5

779

10.2

2.0

140

4

AgCuNiAl20-2-1

763

10.0

3.0

160

銀濺射靶材 (Silver -Ag)

規(guī)格尺寸

形狀

圓形、方形

尺寸

按客戶要求定制加工

厚度

按客戶要求定制

純度

≥4N

注:具體尺寸請聯(lián)系銷售。

 

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Silver (Ag)

前言:

磁控濺射高純銀(Ag)鍍膜靶材,作為現(xiàn)代工業(yè)材料技術(shù)中的佼佼者,憑借其獨(dú)特的特性與廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢,在半導(dǎo)體、光電子、醫(yī)療器械等多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出了非凡的潛力與價(jià)值。

銀靶(Ag)規(guī)格:圓靶、板靶,純度: 99.9999%;密度: 10.4970g/cm3;熔點(diǎn): 961℃

PRECIOUS metaLS   稀貴金屬材料、電子束蒸發(fā)顆粒

Gold (Au)

Palladium (Pd)

Silver (Ag)

Platinum (Pt)

Gold Arsenic (AuAs)

Rhenium (Re)

Gold Tin (AuSn)

Rhodium (Rh)

Iridium (Ir)

Ruthenium (Ru)

Osmium (Os)


我司深耕靶材領(lǐng)域十年,專注研發(fā)與生產(chǎn),鑄就行業(yè)精品。所生產(chǎn)稀貴金屬材料如下:

一:特性概述

磁控濺射高純銀靶材,其核心特性在于其高純度與卓越的物理性能。這類靶材通常銀含量,確保了鍍膜過程中極低的雜質(zhì)引入,從而顯著提升了薄膜的電學(xué)、光學(xué)性能及穩(wěn)定性。高純銀靶材具有良好的導(dǎo)熱導(dǎo)電性,能有效促進(jìn)鍍膜過程中的熱量散失與電荷傳輸,確保薄膜的均勻沉積與高質(zhì)量形成。此外,其優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性使得鍍膜層在多種環(huán)境下均能保持穩(wěn)定的性能,延長了產(chǎn)品的使用壽命。銀靶(Ag)規(guī)格:圓靶、板靶,純度: 99.999%;密度: 10.4970g/cm3;熔點(diǎn): 961℃

二:行業(yè)應(yīng)用優(yōu)勢

1、半導(dǎo)體行業(yè):在半導(dǎo)體制造過程中,磁控濺射高純銀靶材被廣泛應(yīng)用于沉積導(dǎo)電層、反射層等關(guān)鍵薄膜。其高純度特性有效降低了雜質(zhì)對半導(dǎo)體器件性能的影響,提升了器件的良率與可靠性。同時(shí),磁控濺射技術(shù)的高效性與均勻性,確保了導(dǎo)電層與反射層的高質(zhì)量制備,對于提升半導(dǎo)體器件的整體性能具有重要意義。

 

2、光電子行業(yè):在光電子器件的制造中,磁控濺射高純銀靶材同樣發(fā)揮著重要作用。通過精確控制鍍膜過程,可以制備出具有優(yōu)異光學(xué)性能的薄膜,如反射膜、增透膜等,有效提升光電設(shè)備的效率與輸出質(zhì)量。特別是在光學(xué)傳感器、LED照明等領(lǐng)域,高純銀靶材的應(yīng)用使得產(chǎn)品性能更加優(yōu)越,滿足了市場對高品質(zhì)光電產(chǎn)品的需求。

 

3、醫(yī)療器械行業(yè):隨著醫(yī)療技術(shù)的不斷進(jìn)步,磁控濺射高純銀靶材在醫(yī)療器械領(lǐng)域的應(yīng)用也日益廣泛。通過濺射技術(shù),可以在醫(yī)療器械表面形成具有抗菌、抗炎性能的銀基復(fù)合薄膜,顯著提升醫(yī)療器械的安全性與耐用性。同時(shí),高純銀靶材的引入還有助于減少患者使用過程中的感染風(fēng)險(xiǎn),為醫(yī)療安全保駕護(hù)航。

綜上所述,磁控濺射高純銀(Ag)鍍膜靶材以其獨(dú)特的特性與廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢,在現(xiàn)代工業(yè)中占據(jù)了舉足輕重的地位。未來,隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步與應(yīng)用的持續(xù)拓展,磁控濺射高純銀靶材有望在更多領(lǐng)域展現(xiàn)其卓越的性能與價(jià)值,為人類社會(huì)的發(fā)展貢獻(xiàn)更大的力量。


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